[发明专利]光催化剂转印膜及其制造方法有效
| 申请号： | 201980025313.3 | 申请日： | 2019-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN111971332B | 公开（公告）日： | 2023-02-28 |
| 发明（设计）人： | 汤山昌弘;古馆学;井上友博 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C08J7/04 | 分类号： | C08J7/04;C08L23/12;C09D5/00;C09D183/00;C09D7/61;B01J23/14;B01J23/89;B01J35/02;B01J37/02;B05D5/00;B05D7/04;B05D7/24;B32B9/00;B32B27/32 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 刘强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光催化剂转印膜及其制造方法，所述光催化剂转印膜能够均匀地将高透明性的光催化剂层转印加工至各种转印基材的表面。一种光催化剂转印膜，其在双向拉伸聚丙烯膜上具有包含含有氧化钛粒子的光催化剂、硅化合物以及表面活性剂的光催化剂层。一种光催化剂转印膜的制造方法，该方法包括：将包含含有氧化钛粒子的光催化剂、硅化合物、表面活性剂以及水性分散介质的光催化剂涂敷液涂布在双向拉伸的聚丙烯膜上，并进行干燥。 | ||
| 搜索关键词： | 光催化剂 转印膜 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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