[发明专利]用于半导体处理腔室的微波泄漏减少的方法和装置在审
| 申请号： | 201980026308.4 | 申请日： | 2019-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN112005335A | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | P·P·饶;A·朱普迪;R·高塔姆 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 汪骏飞;侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于在处理腔室的狭缝阀处减少微波泄漏的方法和装置。在狭缝阀四周的多重频率共振扼流器防止来自频带的微波能量从狭缝阀逸出。多重频率共振扼流器可具有倾斜底部表面或锯齿底部表面，以使得多重频率能够在扼流器中共振，抵销由狭缝阀门所形成的间隙处的微波频率的范围。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 半导体 处理 微波 泄漏 减少 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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