[发明专利]基板处理设备在审
| 申请号： | 201980026434.X | 申请日： | 2019-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN112005336A | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | 吴雄教;金英云;刘光洙;曺源泰 | 申请（专利权）人： | 周星工程股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67;C23C16/44;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 李琳;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基板处理设备，包括：腔室；第一电极，其设置在腔室的顶部；第二电极，其设置在第一电极的底部并且包括多个开口；多个突起电极，其从第一电极延伸并且延伸到第二电极的多个开口；基板支撑件，其面对第二电极并且基板放置在其上；第一放电区域，其在第一电极的底表面与第二电极的顶表面之间；第二放电区域，其在突起电极的侧表面与第二电极的开口内表面之间；第三放电区域，其在突起电极的底表面与第二电极的开口内表面之间；以及第四放电区域，其在第二电极与基板之间，其中，在第一放电区域至第四放电区域的至少一个区域中产生等离子体。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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