[发明专利]晶片的镜面倒角方法、晶片的制造方法及晶片有效
| 申请号： | 201980026464.0 | 申请日： | 2019-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN112218737B | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | 山下健儿 | 申请（专利权）人： | 胜高股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B9/00 | 分类号： | B24B9/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 张泽洲;司昆明 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供能够抑制晶片的主面与倒角面的边界的棱角的晶片的镜面倒角方法。本发明是将晶片（W）的倒角面借助研磨垫（4、6）镜面研磨的晶片的镜面倒角方法，其特征在于，使研磨垫（4、6）的主面与晶片（W）的主面所成的角度（α1、α2）为倒角时的倒角角度的目标值以下。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 倒角 方法 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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