[发明专利]靶和用于制造靶的方法有效

专利信息
申请号: 201980026614.8 申请日: 2019-04-12
公开(公告)号: CN112236403B 公开(公告)日: 2023-04-14
发明(设计)人: 皮特·波尔契克;萨宾·沃勒 申请(专利权)人: 普兰西复合材料有限公司
主分类号: C04B35/58 分类号: C04B35/58;C04B35/645;C23C14/06;C23C14/34
代理公司: 北京市万慧达律师事务所 11111 代理人: 王蕊;赵洁
地址: 德国滨湖*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种用于物理气相沉积的靶,所述靶具有如下化学成分:‑以下化合物中的至少两种化合物的混合物:二硼化钛(TiB2)和/或二硼化钒(VB2)和/或二硼化钛(TiB2)与二硼化钒(VB2)的混合相((Ti,V)B2),所述至少两种化合物为95mol%至100mol%‑0.01mol%至5mol%的碳(C)‑二硼化钛(TiB2)和/或二硼化钒(VB2)和/或二硼化钛(TiB2)与二硼化钒(VB2)的混合相((Ti,V)B2)以外的小于0.01mol%的硼化物,其中关于金属纯度方面,二硼化钛(TiB2)和/或二硼化钒(VB2)和/或二硼化钛(TiB2)与二硼化钒(VB2)的混合相((Ti,V)B2)的混合物以及碳(C)的总和至少为99.8mol%,而且具有如下物理特性:‑密度大于上文所限定的化学成分的理论密度的90%、优选地大于上文所限定的化学成分的理论密度的95%‑二硼化钛(TiB2)和/或二硼化钒(VB2)和/或二硼化钛(TiB2)与二硼化钒(VB2)的混合相((Ti,V)B2)的混合物的晶粒的平均粒度小于10微米、优选地小于3微米。
搜索关键词: 用于 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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