[发明专利]溅射阴极、溅射阴极组件、以及溅射装置有效
| 申请号： | 201980027502.4 | 申请日： | 2019-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN112004958B | 公开（公告）日： | 2022-11-11 |
| 发明（设计）人： | 岩田宽 | 申请（专利权）人： | 京浜乐梦金属科技株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/35;H05H1/46 |
| 代理公司： | 北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙) 11400 | 代理人： | 黄谦;杨阳 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种溅射阴极以及使用该溅射阴极的溅射装置，其可以在包括平板状的被成膜体在内的各种被成膜体上以足够高的成膜速度且低冲击力进行成膜，而且溅射靶的使用效率高。溅射阴极具有溅射靶(10)，所述溅射靶(10)的横截面形状具有管状的形状，且具有彼此相对的一对长边部，所述溅射靶(10)的侵蚀面朝向内侧，并且，沿所述溅射靶(10)设置有磁路，一对长边部由具有圆柱形状的旋转靶(11，12)构成。旋转靶构成为在内部设置有磁路，而且使冷却水流动。磁路平行于旋转靶的中心轴线设置，并且，具有长方形的横截面形状，且横截面形状具有垂直于旋转靶的半径方向的长边。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 阴极 组件 以及 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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