[发明专利]检查装置在审
| 申请号： | 201980029439.8 | 申请日： | 2019-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN112272766A | 公开（公告）日： | 2021-01-26 |
| 发明（设计）人： | 菅田贵志;儿玉亮二 | 申请（专利权）人： | 纳米系统解决方案株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/956 | 分类号： | G01N21/956;H01L21/66 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李婷;王玮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种检查装置，能够以节省空间的方式可靠地测量晶片的斜面等的异形部分。检查装置（100）具备：对作为对象的晶片（WA）的外周区域（AP）进行照明的外周照明部（11、111）、对晶片（WA）的外周区域（AP）进行拍摄的外周拍摄部，外周照明部（11、111）具有圆弧照明部（11a、111a），所述圆弧照明部沿着圆周（CI）的部分区域配置而对基准轴（SA）上的既定区域（A1）进行照明，所述圆周（CI）以基准轴（SA）为中心，圆弧照明部（11a、111a）的基准轴（SA）沿与晶片（WA）的外周部（UA）延伸的切线方向相交的方向延伸。 | ||
| 搜索关键词： | 检查 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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