[发明专利]基板处理设备有效

专利信息
申请号: 201980029687.2 申请日: 2019-05-03
公开(公告)号: CN112119180B 公开(公告)日: 2023-04-28
发明(设计)人: 康豪哲 申请(专利权)人: 周星工程股份有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/505;C23C16/54;H01L21/67;H01L21/02
代理公司: 北京市立康律师事务所 11805 代理人: 梁挥
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 根据本发明一个实施方式的基板处理设备包括:气体喷射部(101),包括两个气体分配部(140,130)及两种类型的喷嘴(133,138),所述两个气体分配部设置在腔室(110)的上部并且彼此空间分离,所述两种类型的喷嘴分别连接到所述两个气体分配部,并且具有彼此不同的长度;第一电极(120),连接到射频(RF)电源,并且设置在所述气体喷射部(101)的下方以与所述气体喷射部(101)垂直间隔开,所述第一电极具有多个开口(122),在所述喷嘴中的一种类型的喷嘴分别插入到所述多个开口中;以及第二电极(152),与所述第一电极(120)相对设置并且在所述第二电极上安装有基板。
搜索关键词: 处理 设备
【主权项】:
暂无信息
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