[发明专利]用于基于X射线的测量系统的校准及对准的多层目标有效
| 申请号： | 201980031121.3 | 申请日： | 2019-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN112105917B | 公开（公告）日： | 2022-09-16 |
| 发明（设计）人： | N·亚提湄夫;A·吉里纽;A·毕卡诺维;A·库兹涅佐夫 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/201 | 分类号： | G01N23/201;G01N23/205;G01N23/207;G01N23/20008;G01B15/02;H01L21/67;H01L21/68 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 刘丽楠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文描述实现基于X射线的测量系统的快速及准确的绝对校准及对准的多层目标。所述多层校准目标具有非常高衍射效率且使用快速、低成本生产技术来制造。每一目标包含使用成对的X射线透射及X射线吸收材料来构建的多层结构。所述多层目标结构的层定向为平行于入射X射线束。所测量的衍射图案指示所述入射X射线束与所述多层目标之间的位置及定向失准。在另一方面中，复合多层目标包含至少两个多层结构，布置成沿与所述入射X射线束对准的方向彼此相邻、沿垂直于所述入射X射线束的方向彼此相邻或其组合。在一些实施例中，所述多层结构以间隙距离彼此空间间隔开。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 基于 射线 测量 系统 校准 对准 多层 目标 | ||
【主权项】：
暂无信息
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