[发明专利]用以转印光刻掩模的原初结构部分的光学系统、用以将可布置光刻掩模的至少一个原初结构部分的物场进行成像的投射光学单元、以及光刻掩模在审
| 申请号： | 201980031305.X | 申请日： | 2019-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN112166380A | 公开（公告）日： | 2021-01-01 |
| 发明（设计）人： | M.帕特拉;J.劳夫 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B13/08;G03F1/24;G03F1/22 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 用于转印光刻掩模(10)的原初结构部分(13)的光学系统。原初结构部分(13)具有大于4∶1的x/y纵横比，且在光刻掩模(10)上彼此相邻布置成行且通过不带有任何待成像结构的分离部分(14)而彼此分开。在将物场成像至像场的协助下，光学系统将原初结构部分(13)转印至基板(26)的图像部分(31)上，其中光刻掩模(10)的原初结构部分(13)的其中至少一个可布置在物场中，且基板(26)的图像部分(31)的其中至少一个可布置在像场中。原初结构部分(13)的每一个转印到单独的图像部分(31)。转印原初结构部分(13)于其上的图像部分(31)彼此相邻布置成行。在此光学系统中可采用的投射光学单元可具有这样的变形实施例，其针对两个相互垂直的场坐标具有不同的成像比例，其中一个成像比例针对其中一个场坐标缩小，且其中另一个成像比例针对另一个场坐标放大。这导致一光学系统，其中使用此光学系统的投射曝光设备的生产量增加。 | ||
| 搜索关键词： | 用以 光刻 原初 结构 部分 光学系统 布置 至少 一个 进行 成像 投射 光学 单元 以及 | ||
【主权项】：
暂无信息
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