[发明专利]检查设备的照射源、检查设备和检查方法有效
| 申请号： | 201980032783.2 | 申请日： | 2019-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN112119355B | 公开（公告）日： | 2023-09-29 |
| 发明（设计）人： | D·欧德威尔;P·W·斯摩奥伦堡;G·J·H·布鲁斯阿德 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/09;G01N21/95;G01N21/956;G01N21/88 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种照射源设备(500)，所述照射源设备适合用于量测设备中以表征衬底上的结构，所述照射源设备包括：高次谐波产生HHG介质(502)；泵浦辐射源(506)，能够操作为发射泵浦辐射束(508)；和可调整的变换光学器件(510)，所述可调整的变换光学器件被配置为可调整地变换所述泵浦辐射束的横向空间轮廓以产生被变换的束(518)，使得相对于所述被变换的束的中心轴线，所述被变换的束的中心区具有实质上为零的强度，而从所述被变换的束的所述中心轴线径向向外的外部区具有非零的强度，其中所述被变换的束被布置为激励所述HHG介质以产生高次谐波辐射(540)，其中所述外部区的部位依赖于所述可调整的变换光学器件的调整设定。 | ||
| 搜索关键词： | 检查 设备 照射 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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