[发明专利]碳化硅单晶制造装置及碳化硅单晶的制造方法有效

专利信息
申请号: 201980033272.2 申请日: 2019-05-23
公开(公告)号: CN112166210B 公开(公告)日: 2023-03-10
发明(设计)人: 大矢信之 申请(专利权)人: 株式会社电装
主分类号: C30B29/36 分类号: C30B29/36;C30B25/12;H01L21/205
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 高迪
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 碳化硅单晶制造装置具备:筒形状的坩埚(9),具有构成反应室的中空部;台座(10),被配置在坩埚的中空部内,在一面设置SiC单晶(6)的生长用的籽晶(5),并且配置籽晶的一面为圆形状。此外,具备:气体供给机构(2、3),从比台座靠下方向籽晶的表面供给用来使SiC单晶生长的SiC原料气体(3a);以及加热装置(12),将SiC原料气体加热并分解。并且,具备:旋转机构(11),通过使台座旋转,从而一边使籽晶旋转一边进行SiC单晶的生长;使台座的中心轴从该台座的旋转中心(R)偏心。
搜索关键词: 碳化硅 制造 装置 方法
【主权项】:
暂无信息
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