[发明专利]使用关键尺寸扫描型电子显微镜的工艺仿真模型校正在审
| 申请号： | 201980033624.4 | 申请日： | 2019-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN112136135A | 公开（公告）日： | 2020-12-25 |
| 发明（设计）人： | 冯野;朱利安·麦尔福尔特;陆阳;埃米莉·安·奥尔登;高利胜;大卫·M·弗瑞德;丹尼尔·安东尼·西蒙;安德鲁·D·贝利三世 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | G06F30/367 | 分类号： | G06F30/367 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 樊英如;张华 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了将工艺仿真模型优化至使半导体设备制造操作特性化的工艺参数值的计算机实施方法，该工艺仿真模型预测半导体设备制造操作的结果。所述方法涉及使用半导体设备制造操作的运算性预测结果及至少部分通过在反应室中执行半导体设备制造操作所产生的计量结果来产生成本价值，该反应室是在成组的固定工艺参数值下操作。工艺仿真模型的参数的判定可采用工艺前轮廓、经由相对轮廓计量结果的参数的结果性工艺后轮廓的优化。例如光学散射测量、扫描型电子显微术及透射电子显微术的成本价值可用于引导优化。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 关键 尺寸 扫描 电子显微镜 工艺 仿真 模型 校正 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于朗姆研究公司，未经朗姆研究公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201980033624.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
