[发明专利]光刻设备在审
| 申请号： | 201980035504.8 | 申请日： | 2019-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN112166382A | 公开（公告）日： | 2021-01-01 |
| 发明（设计）人： | M·A·范德克尔克霍夫;M·A·G·梅尔克斯;彼得-詹·范兹沃勒 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明披露了一种光刻设备，包括：照射系统，配置成调节辐射束；图案形成装置(601)，配置成在辐射束的横截面中将图案赋予辐射束以形成图案化的辐射束；表膜(602)，配置成覆盖图案形成装置(601)的表面；衬底台，配置成保持衬底；投影系统，配置成当衬底被衬底台保持时将经图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上，其中投影系统包括一个或更多个光学元件；第一组的一个或更多个出口(603)，用于将第一流体输出至第一区域中，其中第一区域邻接和/或包括表膜(602)；和第二组的一个或更多个出口(605)，配置成将第二流体输出至第二区域中，第二区域包括投影系统的一个或更多个光学元件；并且其中第二流体与第一流体不同。有利地，第一区域中的流体保护表膜(602)免受第二区域中的流体损坏。因此能够使用将会以另外的方式被第二区域中的流体损坏的表膜。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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