[发明专利]光电探测器及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201980036202.2 申请日: 2019-05-29
公开(公告)号: CN112534590A 公开(公告)日: 2021-03-19
发明(设计)人: 张毅;H·阿贝戴斯尔;A·J·齐尔基 申请(专利权)人: 洛克利光子有限公司
主分类号: H01L31/105 分类号: H01L31/105;H01L31/028;H01L31/0232
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李湘;陈岚
地址: 英国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种硅基光电探测器及其制造方法。所述光电探测器包括:硅衬底(201);掩埋氧化物层(202),所述掩埋氧化物层在所述硅衬底上方;以及波导(203),所述波导在所述掩埋氧化物层上方。所述波导(203)包括含硅Si区和含锗锡GeSn区(209),这两者都位于所述波导(203)的第一掺杂区(206)与第二掺杂区(207)之间,从而形成PIN二极管。所述第一掺杂区(206)和所述第二掺杂区(207)分别连接到第一电极(210a)和第二电极(210b),使得所述波导(203)能够作为光电探测器进行操作。
搜索关键词: 光电 探测器 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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