[发明专利]确定结构特性的方法和量测设备有效
申请号: | 201980036860.1 | 申请日: | 2019-03-19 |
公开(公告)号: | CN112204473B | 公开(公告)日: | 2023-08-15 |
发明(设计)人: | J·F·德波尔;V·T·滕纳;C·弥赛西;A·J·登鲍埃夫 | 申请(专利权)人: | 阿姆斯特丹自由大学基金会;荷兰科学研究机构基金会;阿姆斯特丹大学;ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张启程 |
地址: | 荷兰阿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了一种用于确定结构的特性的方法和设备。在一种布置中,利用第一照射辐射照射结构以产生第一散射辐射。通过第一散射辐射的到达传感器的部分与第一参考辐射之间的干涉形成第一干涉图案。还利用第二照射辐射从不同方向照射该结构。使用第二参考辐射形成第二干涉图案。第一和第二干涉图案用于确定结构的特性。第一和第二参考辐射到传感器上的方位角是不同的。 | ||
搜索关键词: | 确定 结构 特性 方法 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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