[发明专利]用于波导显示器的具有利用平坦化形成的可变深度的光栅

摘要

制造系统执行蚀刻相容膜在衬底上的沉积。蚀刻相容膜包括第一表面和与第一表面相反的第二表面。制造系统执行对蚀刻相容膜的部分去除，以在第一表面上产生具有相对于衬底的多个深度的表面轮廓。制造系统执行将第二材料沉积在蚀刻相容膜中所产生的轮廓上。制造系统执行第二材料的平坦化，以根据在蚀刻相容膜中产生的轮廓中的多个深度，获得第二材料的多个蚀刻高度。制造系统对沉积在平坦化的第二材料上的光致抗蚀剂执行光刻图案化，以获得在第二材料中的多个蚀刻高度和一个或更多个占空比。