[发明专利]光学层压体、转印用层压体以及光学层压体的制造方法有效
| 申请号： | 201980038128.8 | 申请日： | 2019-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN112236691B | 公开（公告）日： | 2022-09-06 |
| 发明（设计）人： | 须贺田宏士;梶谷俊一 | 申请（专利权）人： | 迪睿合株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/118 | 分类号： | G02B1/118;B29C59/04;B32B3/30;B32B7/023;B32B37/12;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京瑞盟知识产权代理有限公司 11300 | 代理人： | 刘昕;孟祥海 |
| 地址： | 日本国东京都品川区大崎*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题为在被粘附体的至少一部分上精确地形成具有微细凹凸结构的光学体。本发明的解决方案为提供一种光学层压体，其具有被粘附体、形成在被粘附体表面的至少一部分上的粘附层以及通过粘附层粘附在被粘附体上的光学体，在光学体的至少一个表面上形成有凹凸以可见光波长以下的平均周期配置的微细凹凸结构，在光学体的另一个表面上设置有所述粘附层，从具有用于与光学体的微细凹凸结构嵌合的反转凹凸结构的转印体上剥下光学体时的初期90度剥离力为光学体与粘附层之间的90度剥离力的70％以下。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 层压 转印用 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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