[发明专利]用于EUV光刻的粘附层在审
| 申请号： | 201980039710.6 | 申请日： | 2019-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN112368645A | 公开（公告）日： | 2021-02-12 |
| 发明（设计）人： | A·M·查克;V·克里西那莫西;梁懿宸;李昊;S·格莱曼;D·J·格雷罗 | 申请（专利权）人： | 布鲁尔科技公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/02;G03F7/32;G03F7/004;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张佳鑫;徐鑫 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了用作EUV粘附层的新型光刻组合物。本发明提供了使用那些组合物制造微电子结构的方法以及由那些方法所形成的结构。方法涉及在紧邻光刻胶层下方使用粘附层。粘附层可以直接施加于基材，或者也可以施加于可能施加到基材的中间层，例如α‑碳、旋涂碳、旋涂硅硬掩模、金属硬掩模、或沉积的硅层。优选的粘附层由可旋涂的聚合组合物形成。本发明的方法改善粘附性并降低或消除图案崩塌的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 euv 光刻 粘附 | ||
【主权项】：
暂无信息
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