[发明专利]用于微流体装置的纳米图案化的表面及其制造方法在审
| 申请号： | 201980039964.8 | 申请日： | 2019-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN112334230A | 公开（公告）日： | 2021-02-05 |
| 发明（设计）人： | D·E·艾伦;方晔;姜伟;J·G·林;B·J·帕多可;张盈 | 申请（专利权）人： | 康宁股份有限公司 |
| 主分类号： | B01L3/00 | 分类号： | B01L3/00;B81C1/00;B81C3/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 郭辉;张璐 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种制造微流体装置(200,201,300)的方法可包括：将光致抗蚀剂的层沉积到第一基材(210,270,310)上，选择性地移除光致抗蚀剂以暴露的第一基材(210,270,310)，蚀刻第一基材(210,270,310)的暴露部分以形成纳米孔(240,340)的阵列，用金属氧化物涂覆每个纳米孔(240,340)，以及用第一材料涂覆在每个纳米孔(240,340)上的金属氧化物，从而增加DNA、蛋白质和多核苷酸与金属氧化物的结合。在纳米孔(240,340)之间的间隙区域上可沉积第二材料的层，以抑制DNA、蛋白质和多核苷酸结合到间隙区域。第二基材(220,320)可与第一基材(210,270,310)结合以在腔体中包封纳米孔(240,340)的阵列。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 流体 装置 纳米 图案 表面 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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