[发明专利]检查和/或处理用于光刻的元件的装置和方法在审
| 申请号： | 201980040115.4 | 申请日： | 2019-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN112352151A | 公开（公告）日： | 2021-02-09 |
| 发明（设计）人： | M.布达赫;N.奥思;C.伦辛;A.弗雷塔格;C.沃杰克 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G01N23/20008 | 分类号： | G01N23/20008;G03F1/00;G03F1/72;H01J37/30;H01J37/305 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于用带电粒子束(170、1028)检查和/或处理用于光刻的元件(110、200)的装置(1000)，所述装置(1000)包括：(a)在将所述用于光刻的元件(110、200)暴露于所述带电粒子束(170、1028)时记录测量数据(330、440、450、460、470)的构件；以及(b)用训练的机器学习模型(800)和/或预测滤波器来预先确定所述带电粒子束(160、1028)相对于所述用于光刻的元件(110、200)的漂移(410、420、430、480)的构件，其中，所述训练的机器学习模型(800)和/或所述预测滤波器至少使用所述测量数据(330、440、450、460、470)作为输入数据(830)。 | ||
| 搜索关键词： | 检查 处理 用于 光刻 元件 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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