[发明专利]图案轮廓改善用化学增幅型正性光刻胶组合物在审
| 申请号： | 201980041217.8 | 申请日： | 2019-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN112313580A | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 李秀珍;崔映喆;李昇勋;李昇炫 | 申请（专利权）人： | 荣昌化学制品株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人： | 郑青松 |
| 地址： | 韩国庆*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种通过添加能够提高用于形成半导体图案的透过率的树脂而表现与以往的KrF正性光刻胶相比垂直的(Vertical)轮廓的KrF光源用光刻胶组合物。作为一种图形轮廓改善用化学增幅型正性光刻胶组合物，其特征在于，相比于组合物总重量，包含5至60重量％的聚合物树脂、0.1至10重量％的由化学式1表示的透过率提高树脂添加物、0.05至10重量％的光致酸产生剂、0.01至5重量％的酸扩散抑制剂以及剩余的溶液。本发明，具有提供与以往正性光刻胶相比具备垂直的(Vertical)轮廓及改善的感光度，同时工艺裕度优异的组合物的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 轮廓 善用 化学 增幅 型正性 光刻 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于荣昌化学制品株式会社，未经荣昌化学制品株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201980041217.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：零面锚定膜的制造方法及液晶显示元件
- 下一篇：溅射装置
