[发明专利]光致抗蚀剂组合物、用于制造光致抗蚀剂涂层、经蚀刻的光致抗蚀剂涂层和经蚀刻的含硅层的方法以及制造使用其的器件的方法在审
| 申请号： | 201980041532.0 | 申请日： | 2019-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN112292637A | 公开（公告）日： | 2021-01-29 |
| 发明（设计）人： | 河户俊二;柳田浩志;滨祐介;佐尾高步;平山拓 | 申请（专利权）人： | 默克专利有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/038;G03F7/004;G03F7/075 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人： | 刘卓然 |
| 地址： | 德国达*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，其包含聚合物、光致产酸剂、包含单元EO和单元PO的(C)化合物以及溶剂。并且本发明涉及一种用于制造光致抗蚀剂涂层、经蚀刻的光致抗蚀剂涂层以及经蚀刻的含硅层的方法。并且，本发明涉及一种用于制造器件的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 组合 用于 制造 涂层 蚀刻 含硅层 方法 以及 使用 器件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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