[发明专利]用于基材上的大气压等离子射流涂覆沉积的改进方法和装置在审
| 申请号： | 201980041732.6 | 申请日： | 2019-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN112313005A | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | G·谢尔特詹斯;R·海伯格;M·阿尔纳瑟 | 申请（专利权）人： | 分子等离子集团股份有限公司 |
| 主分类号： | B01J19/08 | 分类号： | B01J19/08;H05H1/24;B05B15/65;B05B7/22;B05B15/18;B05B7/04;C23C16/44;C23C4/134;H05H1/42;B05B13/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 浦易文 |
| 地址： | 卢森*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于等离子涂覆包括物体轮廓的物体的方法，包括以下步骤：a.制造能更换的遮护件(2)，该遮护件包括射流入口(22)、喷嘴出口(24)和从射流入口延伸至喷嘴出口的侧壁(21)，其中，喷嘴出口包括与物体轮廓的至少一部分基本上一致的边缘(25)；b.将能更换的遮护件能拆卸地附连到等离子射流发生器的射流出口；c.将物体放置在喷嘴出口处，使得物体轮廓紧密地配合喷嘴出口边缘，从而使喷嘴出口与物体之间的间隙最小化；d.通过经由等离子射流发生器在遮护件中提供等离子射流，并在遮护件中的等离子射流中喷射涂层前体，由此产生操作压力，在高于大气压力、优选地至多10％的操作压力下，从而利用低温无氧等离子体对物体进行涂覆，从而在氧耗尽的等离子体区中对物体进行等离子涂覆。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 基材 大气压 等离子 射流 沉积 改进 方法 装置 | ||
【主权项】：
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