[发明专利]曝光装置以及高度调整方法在审
| 申请号： | 201980041745.3 | 申请日： | 2019-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN112334836A | 公开（公告）日： | 2021-02-05 |
| 发明（设计）人： | 米泽良 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 海坤 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 能够准确地进行光照射部的高度调整。驱动旋转驱动部而使小齿轮(161b)旋转，从而使设置有与小齿轮(161b)啮合的齿条(161a)的支承部(15a)沿高度方向移动。另外，在具有永久磁铁和电磁铁的永久电磁铁(163)所具有的电磁铁的线圈流通电流，使永久电磁铁(163)吸附支承部(15a)，由此使支承部侧滑动面(161e)与柱侧滑动面(161d)紧贴，通过支承部侧滑动面(161e)与柱侧滑动面(161d)之间的摩擦力而固定支承部(15a)。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 以及 高度 调整 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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