[发明专利]用于在有机材料上沉积金属氧化物膜的沉积工具和方法

摘要

一种原子层沉积(ALD)工具被配置成利用高反应性有机金属前体将金属氧化物层沉积于衬底上的有机光致抗蚀剂上。通过使用高反应性金属前体，金属氧化物层的生长速率非常快速，以产生“密封”，其有效地保护有机光致抗蚀剂以免于因在后续ALD循环期间暴露于氧物质而造成的损耗和劣化。沉积金属氧化物层的能力表示金属氧化物间隔物可用于多重图案化中，从而导致高度均匀、密集的线以及消除光刻‑蚀刻步骤。