[发明专利]用于使用中性原子束进行工件处理的系统和方法有效
| 申请号： | 201980044901.1 | 申请日： | 2019-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN112470246B | 公开（公告）日： | 2021-11-19 |
| 发明（设计）人： | S·E·萨瓦 | 申请（专利权）人： | 玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京易光知识产权代理有限公司 11596 | 代理人： | 崔晓光 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了等离子体处理系统和方法。在一个实例中，系统包括具有工件支撑件的处理腔室。工件配置成用于支撑工件。系统包括等离子体源，其配置成在等离子体腔室中由工艺气体感应出等离子体以产生一种或多种负离子。系统包括一个栅格结构，其配置成用于将一种或多种负离子朝向工件加速。栅格结构可包括第一栅板、第二栅板以及位于第一栅板与第二栅板之间以减少通过第一栅板加速的电子的一个或多个磁性元件。系统可以包括设置在栅格结构下游的中和器单元，中和器单元配置成从负离子的一种或多种物质的离子中分离出额外的电子以产生用于处理工件的高能中性物质。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 使用 中性 原子 进行 工件 处理 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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