[发明专利]用于定位和夹持固化的设备在审
| 申请号： | 201980045076.7 | 申请日： | 2019-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN112384853A | 公开（公告）日： | 2021-02-19 |
| 发明（设计）人： | M·D·N·彼得斯;M·A·德福尔特尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/62 | 分类号： | G03F1/62;B25J15/02;B65G47/86;G03F1/64;G03F1/68;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种设备(200)，包括：第一夹持构件(202)，所述第一夹持构件包括第一磁性元件(204)并能够在第一位置和第二位置之间移动；第一偏置构件(210)，配置成使所述第一夹持构件朝向所述第一位置偏置；和第二磁性元件(214)，能够选择性地在第一模式和第二模式中操作，在所述第一模式中所述第二磁性元件与所述第一磁性元件相互作用以抵抗所述第一偏置构件并将所述第一夹持构件移动至所述第二位置，在所述第二模式中所述第二磁性元件不抵抗所述第一偏置构件，使得所述第一夹持构件搁置于所述第一位置中。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 定位 夹持 固化 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
