[发明专利]反射光学元件的基板有效
| 申请号： | 201980045269.2 | 申请日： | 2019-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN112384483B | 公开（公告）日： | 2023-06-20 |
| 发明（设计）人： | E.伊娃 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | C03C3/06 | 分类号： | C03C3/06;C03C17/36 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
为了减少在压紧后特别是随长时间段推移而松弛的程度，提出了基板(51)或特别是用于EUV光刻的具有该类型的基板(51)的反射光学元件(50)，其中，基板的表面区域(511)具有表面涂层(54)。这些基板(51)的特征在于，掺杂钛的石英玻璃至少在表面区域(511)附近具有至少1*10 |
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| 搜索关键词： | 反射 光学 元件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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