[发明专利]用于基于等离子体的沉积的表面改性的深度受控沉积在审
| 申请号： | 201980045632.0 | 申请日： | 2019-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN112384643A | 公开（公告）日： | 2021-02-19 |
| 发明（设计）人： | 约瑟夫·阿贝尔;阿德里安·拉沃伊;普鲁肖塔姆·库马尔 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/04;C23C16/505;C23C16/44 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 李献忠;张静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于执行衬底上的特征的间隙填充的方法，其包括：(a)移动所述衬底至处理室中；(b)执行ALD工艺的多个循环；(c)从所述处理室清扫来自所述ALD工艺的处理气体；(d)通过将含氟气体引入至所述处理室中并施加RF功率至所述含氟气体以在所述处理室中产生氟等离子体，而对所述衬底进行等离子体处理；(e)从所述处理室清扫来自所述等离子体处理的处理气体；(f)重复操作(b)至(e)，直到执行预定循环次数。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 基于 等离子体 沉积 表面 改性 深度 受控 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于朗姆研究公司，未经朗姆研究公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201980045632.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：特别是望远镜瞄准器的远程光学装置
- 下一篇：胫骨校准装置及其单元
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
