[发明专利]半导体装置的制造方法、热固性树脂组合物及切晶粘晶一体型膜在审

专利信息
申请号: 201980045678.2 申请日: 2019-07-10
公开(公告)号: CN112385016A 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: 山本和弘;国土由衣;藤尾俊介 申请(专利权)人: 昭和电工材料株式会社
主分类号: H01L21/301 分类号: H01L21/301;C09J11/04;C09J201/00;H01L21/52;H01L25/065;H01L25/07;H01L25/18
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 白丽
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的一方面所涉及的半导体装置的制造方法包括:准备切晶粘晶一体型膜的工序,所述切晶粘晶一体型膜具备黏合层、压敏胶黏层及基材膜,所述黏合层由120℃下的熔融粘度为3100Pa·s以上的热固性树脂组合物形成;将切晶粘晶一体型膜的黏合层侧的面与半导体晶圆贴合的工序;切割半导体晶圆的工序;通过扩张基材膜而获得带黏合剂的半导体元件的工序;自压敏胶黏层拾取带黏合剂的半导体元件的工序;将该半导体元件经由所述黏合剂而层叠于其他半导体元件的工序;以及使所述黏合剂热固化的工序。
搜索关键词: 半导体 装置 制造 方法 热固性 树脂 组合 切晶粘晶一 体型
【主权项】:
暂无信息
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