[发明专利]生成含金属或半金属膜的方法有效
| 申请号： | 201980046332.4 | 申请日： | 2019-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN112384639B | 公开（公告）日： | 2023-09-26 |
| 发明（设计）人： | D·D·施魏因富特;L·迈尔;S·V·克伦克;D·舍施克维茨;K·I·莱什琴斯卡 | 申请（专利权）人： | 巴斯夫欧洲公司 |
| 主分类号： | C23C16/18 | 分类号： | C23C16/18;C23C16/06;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 张双双;刘金辉 |
| 地址： | 德国莱茵河*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明属于在基材上产生无机薄膜的方法，特别是原子层沉积方法的领域。本发明涉及一种制备含金属或半金属的膜的方法，其包括：(a)将含金属或半金属化合物由气态沉积至固体基材上，和(b)使沉积有含金属或半金属化合物的固体基材与通式(II)、(III)或(IV)化合物接触，其中E为Ge或Sn，R为烷基、链烯基、芳基或甲硅烷基，R’为烷基、链烯基、芳基或甲硅烷基，X为空、氢、卤化物基团、烷基、亚烷基、芳基、烷氧基、芳氧基、氨基、脒化物基团或胍化物基团，L为烷基、链烯基、芳基或甲硅烷基。#imgabs0# | ||
| 搜索关键词： | 生成 金属 金属膜 方法 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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