[发明专利]凹面衍射光栅的制造方法、制造装置以及凹面衍射光栅在审
| 申请号： | 201980046336.2 | 申请日： | 2019-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN113167944A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 八重樫健太;江畠佳定;青野宇纪 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;B29C35/08;B29C59/02;B29C59/16 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 丁文蕴;金成哲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种凹面衍射光栅的制造方法，包括如下步骤：使在推压面具有衍射光栅的槽图案的平面金属模具的上述推压面与在凹面涂布有树脂的凹面基板的上述凹面对置，配置上述平面金属模具及上述凹面基板；利用流体对上述平面金属模具进行加压，将上述推压面推压到涂布于上述凹面的上述树脂；以及使通过上述推压面被推压而转印有上述槽图案的上述树脂固化。由此，能够改善载荷不均匀性，能够制造具有高的面精度的凹面衍射光栅。 | ||
| 搜索关键词： | 凹面 衍射 光栅 制造 方法 装置 以及 | ||
【主权项】：
暂无信息
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