[发明专利]改进的立体光刻技术及相关系统和方法有效
| 申请号： | 201980051116.9 | 申请日： | 2019-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN112512779B | 公开（公告）日： | 2023-02-14 |
| 发明（设计）人： | 马克西姆·洛博夫斯基;沙恩·怀顿;詹姆斯·卢米斯;贺然;本杰明·弗朗茨达莱;德米特里·梅格列茨基;杰克·莫尔戴夫;斯科特·约翰斯通;萨拉·本内森;罗伯特·乔基姆;克里斯蒂安·里德;大卫·普赖斯;安德鲁·M·戈德曼;康斯坦丁诺斯·伊科诺穆普洛斯 | 申请（专利权）人： | 福姆实验室公司 |
| 主分类号： | B29C64/10 | 分类号： | B29C64/10;B29C64/00;B33Y10/00;B33Y30/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 蔡胜有;苏虹 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了改进的立体光刻技术。这样的改进技术可以包括多膜容器、用于生产平坦的膜表面的技术、用于力传感的技术、用于引导来自可移动台的光的技术和/或膜张紧技术。根据一些方面，容器可以包括至少部分地彼此脱离的多个膜。在一些实施方案中，多个膜可以包括由不同材料形成的膜。作为一个实例，可以形成上膜以便相对不可渗透到增材制造装置的原材料内的物质，然而可以形成下膜以便提供期望的机械特性。在一些情况下，多个膜通常可以在彼此不附接的同时被张紧。 | ||
| 搜索关键词： | 改进 立体 光刻 技术 相关 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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