[发明专利]控制等离子体加工的系统和方法在审
| 申请号： | 201980051970.5 | 申请日： | 2019-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN112534544A | 公开（公告）日： | 2021-03-19 |
| 发明（设计）人： | 彼得·文特泽克;陈志英;阿洛科·兰詹 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 陈炜;李德山 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种等离子体加工方法包括：生成源功率脉冲的第一序列；生成偏置功率脉冲的第二序列；将该第二序列中的这些偏置功率脉冲与该第一序列中的这些源功率脉冲组合，以形成交替的源功率脉冲和偏置功率脉冲的组合序列；以及使用该组合序列生成包括离子的等离子体并且通过将这些离子传送到衬底的主表面来加工该衬底。 | ||
| 搜索关键词： | 控制 等离子体 加工 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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