[发明专利]颗粒涂覆的方法和设备

摘要

一种用于涂覆颗粒的反应器包括：真空腔室，所述真空腔室经配置为保持待涂覆的颗粒；真空端口，所述真空端口用于经由所述真空腔室的出口从所述真空腔室排放气体；化学递送系统，所述化学递送系统经配置为使处理气体经由真空腔室上的气体入口流入所述颗粒中；一个或多个振动致动器，所述一个或多个振动致动器位于所述真空腔室的第一安装表面上；和控制器，所述控制器经配置为导致所述一个或多个振动致动器在所述真空腔室中产生振动运动，所述振动运动足以在所述真空腔室内保持的所述颗粒中引起振动运动。