[发明专利]用于测量对准标记的位置的设备和方法在审
申请号: | 201980054293.2 | 申请日: | 2019-06-27 |
公开(公告)号: | CN112639623A | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
发明(设计)人: | O·V·沃兹纳 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张启程 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种用于测量衬底上的多个对准标记中的每一个对准标记的位置的设备,包括:照射系统,配置成将来自辐射源的辐射束引导到所述衬底上的多个对准标记上;投影系统,配置成投影来自所述衬底的多个对准标记的图像,所述多个对准标记的图像是由所述辐射束从所述多个对准标记的衍射产生的;光学块,配置成调制来自所述衬底的被投影的多个对准标记的图像,并且其中所述光学块配置成将多个对准标记的被调制的图像投影到感测元件上以产生信号,多个对准标记中的每一个对准标记的位置根据所述信号被并行地确定。 | ||
搜索关键词: | 用于 测量 对准 标记 位置 设备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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