[发明专利]封装构造、半导体装置以及封装构造的形成方法在审

专利信息
申请号: 201980055474.7 申请日: 2019-08-23
公开(公告)号: CN112585745A 公开(公告)日: 2021-03-30
发明(设计)人: 富士和则 申请(专利权)人: 罗姆股份有限公司
主分类号: H01L23/28 分类号: H01L23/28;H01L21/56;H01L23/50
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 丁文蕴;杜嘉璐
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 封装构造具备金属部件和树脂部件。上述金属部件具有朝向第一方向的一方的主面。上述树脂部件与上述主面的至少一部分相接配置。上述主面包括粗糙化区域。在上述粗糙化区域形成有多个第一线状槽,该多个第一线状槽的每一个从上述主面凹陷,且表面比上述主面粗糙。上述多个第一线状槽分别沿与上述第一方向正交的第二方向延伸,且在与上述第一方向及上述第二方向正交的第三方向上排列。上述树脂部件填充于上述多个第一线状槽的每一个。
搜索关键词: 封装 构造 半导体 装置 以及 形成 方法
【主权项】:
暂无信息
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