[发明专利]测量方法和设备在审
| 申请号： | 201980055729.X | 申请日： | 2019-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN112639611A | 公开（公告）日： | 2021-04-09 |
| 发明（设计）人： | 克里斯多夫·艾伦·斯彭斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种控制使用合格化的光学邻近效应校正(OPC)模型的成像过程的方法，所述方法包括：获取OPC模型，所述OPC模型被配置成在用于在图案化过程中使用后OPC设计在衬底上形成图案的过程中对预OPC设计的OPC修改的行为进行建模；在制造环境中使用所述图案化过程；收集在所述制造环境中使用所述图案化过程被图案化的衬底中的过程控制数据；将收集到的过程控制数据储存在数据库中；通过硬件计算机系统分析所储存的收集到的过程控制数据，以验证所述OPC模型是在所选阈值内的校正图案特征；以及对于落入所选阈值外的图案特征，确定对所述成像过程的修改以校正成像误差。 | ||
| 搜索关键词： | 测量方法 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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