[发明专利]用于表征S模式询问和响应的密度的方法和实现这种方法的二次雷达在审

专利信息
申请号: 201980055825.4 申请日: 2019-08-29
公开(公告)号: CN112601977A 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 菲利普·比劳 申请(专利权)人: 泰勒斯公司
主分类号: G01S13/74 分类号: G01S13/74;G01S13/78
代理公司: 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 代理人: 许伟群;郭放
地址: 法国库*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 根据以下步骤表征在由二次雷达覆盖的环境中的S模式询问和响应的密度:‑第一步骤,其中所述雷达:○借助于S模式目标对所述雷达发射的询问的同步响应来检测和定位S模式目标;○检测(32)S模式目标发射并且不会由所述雷达激发的异步响应;○对于每个目标,将其异步响应与其对所述雷达的同步响应相关联(33);‑第二步骤,其中所述雷达:○基于所述关联,通过对在每个给定时间段中从所述目标接收到的同步响应和异步响应的数量进行计数,确定(35)每个目标的响应速率;○将所述环境划分为基本空间单元,通过对每个单元中的每个目标接收到的同步响应和异步响应的数量进行计数来确定(36,37)每个单元的响应速率,所述速率表征每个单元的S模式询问的密度。
搜索关键词: 用于 表征 模式 询问 响应 密度 方法 实现 这种方法 二次 雷达
【主权项】:
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