[发明专利]发光装置在审
申请号: | 201980056016.5 | 申请日: | 2019-08-27 |
公开(公告)号: | CN112640234A | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
发明(设计)人: | 广瀬和义;泷口优;杉山贵浩;黑坂刚孝 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
主分类号: | H01S5/18 | 分类号: | H01S5/18 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本实施方式涉及能够从S‑iPM激光的输出光除去0次光的发光装置。该发光装置具备活性层和相位调制层。相位调制层包含基本层和多个不同折射率区域。在相位调制层上设定了假想的正方晶格的状态下,各不同折射率区域的重心从对应的晶格点离开,且决定各不同折射率区域的重心的位置的各晶格点周围的旋转角度根据用于光学图像形成的相位分布而设定。晶格间隔和发光波长满足相位调制层的倒易晶格空间中的M点振荡的条件。形成在倒易晶格空间上且分别包含与输出光的角度扩展对应的波数扩展的4个方向的面内波数矢量中的至少1个的大小小于2π/λ。 | ||
搜索关键词: | 发光 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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