[发明专利]双面带粘合剂层的光学层叠体有效
| 申请号： | 201980063551.3 | 申请日： | 2019-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN112771413B | 公开（公告）日： | 2023-04-28 |
| 发明（设计）人： | 服部大辅;岸敦史;森岛谅太 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/111 | 分类号： | G02B1/111;B32B3/26;B32B7/022;B32B7/023;C09J7/29;C09J7/38 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 杨薇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种在保持低折射率层的优异特性的同时抑制了真空层压中的低折射率层的破损的双面带粘合剂层的光学层叠体。本发明的双面带粘合剂层的光学层叠体具有：基材、形成于基材的低折射率层、与低折射率层相邻地配置的第1粘合剂层、以及作为一侧最外层的第2粘合剂层。低折射率层的空隙率为50％以上，第1粘合剂层的储能模量为1.3×10 |
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| 搜索关键词： | 双面 粘合剂 光学 层叠 | ||
【主权项】：
暂无信息
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