[发明专利]减少异物的X射线成像系统在审
| 申请号： | 201980063570.6 | 申请日： | 2019-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN112770675A | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | S·K·武帕拉;R·巴特;G·福格特米尔;R·S·西索迪亚;S·乔杜里 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/03 | 分类号： | A61B6/03;A61B6/12;A61B6/00;G06T7/00;G06T11/00;G06T7/73 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 刘兆君 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种改进的X射线成像系统。所述系统包括：X射线辐射源，其被配置为朝向要被成像的目标发射X射线束；以及X射线探测器，其被配置为探测已经穿过所述目标的X射线。所述系统还包括：重建处理单元，其被配置为基于探测到的X射线来重建所述目标的图像，其中，所述重建处理单元还被配置为：确定位于所述目标中或者位于所述目标的表面与所述X射线辐射源和/或所述X射线探测器之间的至少一个异物的存在；从基于服务器的异物数据库获得所确定的异物的三维概况；并且通过以下操作来重建所述目标的图像：从所述X射线探测器采集所述目标的多幅投影图像，并且至少基于所获得的所述异物的三维概况来减小所述目标的所述图像中的能够由所述异物引起的伪影对图像质量的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 减少 异物 射线 成像 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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