[发明专利]用于测量标记的位置的设备和方法在审
| 申请号： | 201980063872.3 | 申请日： | 2019-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN112771450A | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于测量衬底上的标记的位置的设备，所述设备包括：照射系统，所述照射系统被配置成调节至少一个辐射束以形成在空间上串联地分布的多个照射斑，使得在所述衬底的扫描期间所述多个照射斑顺序地入射到所述标记上；和投影系统，所述投影系统被配置成投影由来自所述衬底的所述标记衍射的辐射，通过由所述标记对所述多个照射斑的衍射来产生衍射辐射；其中所述投影系统还被配置成调制所述衍射辐射并且将经调制的辐射投影到检测系统上，所述检测系统被配置成产生与所述多个照射斑中的每个照射斑相对应的信号，所述信号被组合以确定所述标记的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 测量 标记 位置 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201980063872.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：传感器装置及输入装置
- 下一篇：陶瓷生片制造用脱模薄膜
