[发明专利]液晶化合物取向层转印用取向薄膜有效
| 申请号： | 201980064543.0 | 申请日： | 2019-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN112789531B | 公开（公告）日： | 2023-10-27 |
| 发明（设计）人： | 佐佐木靖;村田浩一 | 申请（专利权）人： | 东洋纺株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;B32B27/36;G01M11/00;G01N21/88;B29C48/08 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供：用于转印液晶化合物取向层的转印用薄膜、且该转印用薄膜能形成减少了针孔等坏点的发生的相位差层、偏光层(液晶化合物取向层)。其特征在于，其为用于将液晶化合物取向层转印至对象物的取向薄膜，取向薄膜的脱模面的表面粗糙度(SRa)为1nm以上且30nm以下，或其特征在于，取向薄膜的与脱模面相反侧的面的表面粗糙度(SRa)为1nm以上且50nm以下，且取向薄膜的与脱模面相反侧的面的十点表面粗糙度(SRz)为10nm以上且1500nm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 液晶 化合物 取向 层转印用 薄膜 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东洋纺株式会社，未经东洋纺株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201980064543.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种无线资源控制消息的处理方法、设备及存储介质
- 下一篇：吸入器设备
