[发明专利]制造用于EUV装置的照明系统的方法在审
| 申请号： | 201980065292.8 | 申请日： | 2019-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN112805624A | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | F.鲍默;J.利赫坦撒勒 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用以制造用于EUV装置的照明系统的方法，包含以下步骤：将照明系统(ILL)的反射镜模组(FAC1，FAC2，CO)安装在为反射镜模组所提供的安装位置处，以建立从源位置(SP)延伸到待照明的照明场(BF)的照明光束路径；在照明光束路径的第一反射镜模组(FAC1)的上游的输入耦合位置处将测量光耦合到照明光束路径中；在测量光在照明光束路径的每一反射镜模组处反射之后，检测测量光；从所检测的测量光中确定至少一个系统测量变量的实际测量值，其中实际测量值表示照明系统的系统测量变量的实际状态；从实际测量值中确定校正值；以及使用校正值调整至少一个反射镜模组，以改变实际状态，以使得在使用来自EUV辐射源的EUV辐射进行照射的情况下，在照明场中的照明辐射满足一定义的照明规格。在此情况下，反射镜模组(CO)中的至少一个具有一反射镜表面，在反射镜表面上施加有IR衍射结构(DS‑IR)，反射镜表面设计为使得来自红外线范围的入射辐射的至少一个部分被衍射出照明光束路径。使用具有来自可见光谱范围(VIS)的波长λ的测量光，其中测量光的波长λ被选择使得在IR衍射结构(DS‑IR)处所衍射的更高阶的测量光被实质地抑制。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 用于 euv 装置 照明 系统 方法 | ||
【主权项】：
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