[发明专利]对准元件的致动器装置、半导体光刻的投射曝光设备及对准元件的方法在审
| 申请号： | 201980065744.2 | 申请日： | 2019-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN112805626A | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | B.普尼尼 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B7/198 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于对准元件(2)的致动器装置(1)，其包括能够被紧固到支撑结构(5)的用于第一设定范围的至少一个第一致动器单元(7)以及能够被紧固到元件(2)的用于第二设定范围的第二致动器单元(8)。第一致动器单元(7)具有调整元件(13)和固定元件(14)，固定元件能够被紧固到支撑结构(5)，其中，固定元件(14)被设计为在元件(2)的操作状态下以力配合方式固定输出元件(9)。固定元件(14)附加地被设计为在元件(2)的调整状态下释放力配合连接，以便通过调整元件(13)调整输出元件(9)。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 元件 致动器 装置 半导体 光刻 投射 曝光 设备 方法 | ||
【主权项】：
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