[发明专利]等离子体成膜装置以及等离子体成膜方法有效
| 申请号： | 201980066804.2 | 申请日： | 2019-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN112955580B | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 岛田胜;鸟居博典;田中梢 | 申请（专利权）人： | JSWAFTY公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;H05H1/46 |
| 代理公司： | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人： | 南霆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 等离子体成膜装置1具有：真空腔2，在基板4上进行成膜处理；基板支座3，设置为能够沿基板4的膜形成面4a旋转；旋转轴5，与基板支座3连接；等离子体产生部10，产生等离子体6且设置为使得等离子体6相对于旋转轴5的照射角度成锐角。而且，具有：第一驱动部7，使基板支座3在与旋转轴5平行的上下方向11上移动；第二驱动部8，使基板支座3在与旋转轴5正交的水平方向12上移动；以及使旋转轴5旋转的第三驱动部9，基板支座3在上下方向11和水平方向12上分别独立地移动。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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