[发明专利]多源照射单元及其操作方法在审
| 申请号： | 201980067125.7 | 申请日： | 2019-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN112840271A | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | 张剑;王義向;康志文 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 郑振 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种照射单元包括第一电磁波源，该第一电磁波源包括用于在第一方向上输出第一电磁波以照射样品的第一区域的电路系统；第二电磁波源，该第二电磁波源包括用于在与第一方向基本相反的第二方向上输出第二电磁波的电路系统；以及反射器，该反射器被配置为基本上沿第一方向反射第二电磁波以照射样品的第二区域。 | ||
| 搜索关键词： | 照射 单元 及其 操作方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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