[发明专利]高频磁性膜、其制造方法及用途

摘要

多层膜(10)包括：基底(12)；设置在基底上的第一磁性层(14)以及设置在第一磁性层(14)上的第二磁性层(16)。第一磁性层(14)包含Fe(50‑80)N(10‑20)B(1‑20)M(0‑10)，其中M为Si、Ta、Zr、Ti、Co、或其组合。第二磁性层(16)包含Fe(50‑90)N(10‑50)或Fe(60‑90)N(1‑10)Ta(5‑30)。在50MHz至10GHz的频率范围，多层磁性膜(10)：在该频率范围内的选定频带上具有大于或等于1800的磁导率；在该频率范围内的选定频带上具有小于或等于0.3的磁损耗角正切；以及具有大于或等于1GHz、或者大于或等于2GHz的截止频率。